第272章成功了！光刻工厂实现了！
3纳米极紫外光？
检测光束设备给出的数据反馈让所有人大吃一惊，3纳米的极紫外光束，这岂不是说他们即将具备制造3纳米芯片的条件？
众所周知，在不考虑《多重曝光技术》的情况下，想要刻出几纳米级的芯片，就要先制造出多少纳米的紫外光光源。
193纳米的深紫外光还好说，大自然里面也能找得到，但13.5纳米及以下的极紫外光，那就必须由人为创造。
深紫外光和极紫外光，和分别对应了DUV光刻机和EUV光刻机，后者现在还处于禁止出口龙国的设备清单里面。
一旦这束光源被证实，确实是可以运用于光刻的极紫外光，那么整个芯片行业都将被颠覆。
“真是3纳米吗？”
夏扬神色激动，向前一步。
现在主流芯片是14纳米，无论是龙兴科技的SOC上帝芯片，还是苹果公司的A9s仿生芯片，亦或者说是髙通公司刚刚推出的骁龙821芯片，它们都是14纳米制程，根本够不着3纳米的边边。
前提是可以能光刻成功。
每推进一步，都需要各行业跟进，一旦说光刻胶不行，那有极紫外光和电路设计图也没用。
夏扬拍了拍胸口。
“确实想不到。”
夏扬：“！！！”
自动涂胶。
3纳米波长？
夏扬咽了口唾沫。
林天点了点头回应道。
光刻工厂不同于光刻机，它更像是一条完整的自动化流水线，只需要装填半导体硅片以及光刻胶与配套试剂，输入指令后就可以进行自动化生产。
雷兵瞪大双眼，不敢错过任何一丝的细节。
自动光刻。
经过了开天芯片、轻舟芯片、SOC上帝芯片多次耳濡目染，他已经算半个行内人了。
林天喃喃自语。
岂不是能刻3纳米芯片？
当然了。
“咕噜——”
“总裁说得没错。”林天也给予了肯定，他回头看向两位局长道：“现在说3纳米芯片还为时过早，不过我们可以先试试这13.5纳米波长的极紫外光，看看它能不能满足芯片生产需求。”
想通了！
原来是专门支持龙兴科技建设光刻工厂的，这也就是说，上边其实已经是知道的了。
“确实是我们操之过急了。”
要是真能造3纳米芯片，那可不是小小的科技震撼，而是向整个半导体芯片行业扔了个蘑菇弹，要颠覆整个行业的事情了。
他目光看向夏扬。
林天微微颔首，没有说话，他双眸注视着监控画面，神色也显得格外紧张。
“试试就知道了。”
陈星讲解道。
林天看着“检测中”的提示，看向陈星说道：“如果可以通过，二期光刻工厂就可以开工了，不过能源还是个问题…”
两块光掩膜版已经重叠，他们在特定
这也是为什么第一期的光刻工厂只有5000平的原因，因为建造太大也没用，像静电吸盘和各类自动化运输的设备，都是需要定制化购买的，关键有些设备国内还没有，比如静电吸盘设备。
虽然他们在操控室，但面前的屏幕有显示洁净室的画面，根本不需要亲自前往。
“这句话在理。”
奉天军区？
下一秒。
夏扬也点了点头，附和道：“没错，记忆力不好的想记也记不住，陈总能记住这些流程，足以见得龙兴科技深耕芯片的赤子之心。”
他们现在可是关了全深城的电力供应，哪怕是凌晨4点钟，但依然会对城市造成影响。
这不是隶属于北部战区的吗？
他就说怎么这么奇怪，明明东部地区用的是国家电网，而深城用的是南方电网，怎么会突然输送电力过来，深城也不缺电啊。
随着透镜组移动到指定位置，13.5纳米波长的极紫外光发生了折射，精准地照射在两块图案互补的光掩膜版上，而光掩膜版上面的完整图案被照射后，最终落到待曝光的半导体硅片表面。
体制内，谁不想进步？
有进步的机会，他们可不会放过，更何况是涉及“芯片”的。
“滋——”
存放在特定区域的半导体硅片被静电吸盘吸起，运送到清洗区域，洗掉附着在半导体硅片表面的灰尘和杂质。
雷兵笑道。
后者立马会意，连忙说道：“陈总、林首席你们放心好了，只要证实光刻工厂可行，天一亮我就回去召开市级会议，主题就是建设你们的能源输送通道。”
“不能这样说。”
不过纵使是这样，雷兵还是忍不住竖起拇指称赞道：“想不到陈总不仅在商业领域有所建树，原来在芯片领域也有自己独到的见解。”
像目前龙兴化工研制的1号光刻胶，它的曝光波长就在193纳米，最高支持7纳米芯片制造，这还是有多重曝光技术加持的情况下。
他们属于是懂一点，但并不知道半导体芯片领域可不仅仅只有极紫外光，还有N多的细枝末节，只有全部攻克才能造出芯片。
你陈星不和南部战区打交道，跑去北部战区了？
“包在我身上。”
“理论上来说，运行功率的加大，会同步放大电子运动的速度，电子在环形存储器的速度越快，辐射出的极紫外光能量就越强，但我并不能确定这个数值是不是正确的，只能说理论可行。”
就在雷兵和夏扬内心掀起惊涛骇浪，震惊到大脑空白时，林天突然打断了他们道：“裸片电路的检测结果出来了。”
当这步完成以后，半导体硅片再次被运输，它来到了显影区域。
光刻工厂没有人测试过，谁也不知道行不行。
身旁的夏扬则是惊讶到懵逼，东电南调文件，这不是刚刚下达的全国性绝密文件吗？
想要制造出3纳米芯片，3纳米极紫外光、3纳米芯片电路设计、3纳米曝光波长光刻胶缺一不可，这也是为什么，芯片纳米等级推进缓慢的原因。
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